[发明专利]真空旋涂用托盘在审

专利信息
申请号: 201410760873.2 申请日: 2014-12-13
公开(公告)号: CN105772351A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 张志勇;赵青山;赵少华;赵炜 申请(专利权)人: 西安宝莱特光电科技有限公司
主分类号: B05C13/02 分类号: B05C13/02
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 李罡
地址: 710075 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种托盘,具体涉及一种真空旋涂用托盘,内置基片,主要包括圆盘本体,该圆盘本体中心向下开设凹槽,该凹槽中心开设定位孔,该凹槽内还设有多个真空孔,所述多个真空孔均匀设置于所述凹槽底部的侧边上。本发明通过均匀设置在凹槽底部侧边上的真空孔,从不同的方向对基片进行吸取,受力更加均匀,避免中心集中吸取引起的基片变形,使得涂覆更加均匀。
搜索关键词: 真空 旋涂用 托盘
【主权项】:
一种真空旋涂用托盘,内置基片,其特征在于:主要包括圆盘本体,该圆盘本体中心向下开设凹槽,该凹槽中心开设定位孔,该凹槽内还设有多个真空孔,所述多个真空孔均匀设置于所述凹槽底部的侧边上。
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