[发明专利]光学器件及其制造方法和母板的制造方法有效
申请号: | 201410789625.0 | 申请日: | 2010-08-26 |
公开(公告)号: | CN104536065B | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 远藤惣铭;林部和弥 | 申请(专利权)人: | 迪睿合电子材料有限公司 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;G03F7/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 何欣亭,姜甜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了光学器件及其制造方法、以及母板的制造方法。其中,具有防反射功能的光学器件,包括基底;以及多个结构体,由凸部或凹部形成,以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底的表面上形成多列轨迹,并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案,并且结构体对基底表面的填充率等于或高于65%。 | ||
搜索关键词: | 光学 器件 及其 制造 方法 母板 | ||
【主权项】:
一种具有防反射功能的光学器件的制造方法,所述方法包括以下步骤:在圆柱状或圆筒状的母板的圆周面上形成抗蚀层;一边旋转其上形成了所述抗蚀层的所述母板并且平行于所述圆柱状或圆筒状的母板的中心轴相对移动激光束的光点,一边间歇性地将激光束照射在所述抗蚀层上,以比可见光波长更小的节距形成潜像;显影所述抗蚀层,在所述母板的表面上形成抗蚀图案;通过实施以所述抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理,在所述母板的表面上形成凹状或凸状的结构体;以及使用其上形成了所述结构体的所述母板,制备转印有所述结构体的光学器件,在所述潜像的形成步骤中,所述潜像被配置为在所述母板的表面上形成多列轨迹,并形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案,所述结构体的转印步骤包括:在基底上形成包含硅氧烷树脂的树脂层;以及将所述母板压在所述树脂层上来转印所述母板的结构体,所述结构体对所述母板的表面的填充率等于或高于65%。
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