[发明专利]一种金属成膜掩膜板的清洗方法在审
| 申请号： | 201410812632.8 | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104614933A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 周扬川;柯贤军;吴俊雄;冉应刚;苏君海;黄亚清;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 邓义华;陈卫 |
| 地址： | 516006 广东省惠州市仲*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种金属成膜掩膜板的清洗方法，包括以下3个步骤：S1：在掩膜板的表面蒸镀一层有机层；S2：将步骤S1得到的蒸镀有有机层的掩膜板放入金属成膜腔体进行金属蒸镀；S3：将步骤S2得到的掩膜板放入有机溶液中清洗。本发明可以将金属成膜掩膜板的清洗运用在有机溶剂的清洗机中清洗，有效防止运输过程中引起的不便，同时可以节约外送清洗掩膜板的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 成膜掩膜板 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种金属成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步骤：S1：在掩膜板的表面蒸镀一层有机层；S2：将步骤S1得到具有有机层的掩膜板放入金属成膜腔体进行金属蒸镀；S3：将步骤S2得到的掩膜板放入有机溶液中清洗。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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