[发明专利]一种新型特效硅片清洗液在审
| 申请号： | 201410846914.X | 申请日： | 2015-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN104498209A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 聂金根 | 申请（专利权）人： | 镇江市港南电子有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/831 | 分类号： | C11D1/831;C11D3/60 |
| 代理公司： | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人： | 季萍 |
| 地址： | 212132 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料组分构成：氟化铵7-10份、三羟乙基胺7-12份、阴离子活性剂5-8份、非离子表面活性剂3-5份、盐酸3-4份、葡萄糖酸钠10—15份和助洗剂15—17份，在清洗后，会在硅片表面生成一层保护膜，可提高硅片的抗污能力，同时去污力强，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清洁率，并且对环境无污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 特效 硅片 清洗 | ||
【主权项】：
一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料组分构成：氟化铵 7‑10份三羟乙基胺 7‑12份阴离子活性剂 5‑8份非离子表面活性剂 3‑5份盐酸 3‑4份葡萄糖酸钠 10—15份助洗剂 15—17份。
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