[实用新型]磁控溅射旋转靶有效
| 申请号： | 201420062629.4 | 申请日： | 2014-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN203741407U | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 肖世文 | 申请（专利权）人： | 广州市尤特新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谭英强 |
| 地址： | 510880 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种磁控溅射旋转靶，包括管状的衬管和固定套接在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材，所述衬管和靶材的连接面上设有中间层，所述中间层为导电胶。本实用新型的中间层采用导电胶将衬管和靶材绑定连接，由于导电胶的导电导热性非常优良，并且粘合能力很强，其固化后不会产生流动,可以替代昂贵的铟金属，节省了成本，更有利于提高衬管与靶材的导电导热能力；溅射过程中，溅射功率越大产生的热量越大，在达到铟的熔点后容易脱靶，与铟相比，导电胶的分解温度为铟的一倍以上，即使是较大的溅射功率也不会造成脱靶，使得安全性极大提高。本实用新型可应用于真空磁控溅射。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 旋转 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射旋转靶，其特征在于：包括管状的衬管(1)和固定套接在衬管(1)外壁上并随衬管(1)旋转的靶材(2)，所述衬管(1)和靶材(2)的连接面上设有中间层，所述中间层为导电胶(3)。
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