[实用新型]光取向用偏振照射装置有效
申请号: | 201420086932.8 | 申请日: | 2014-02-27 |
公开(公告)号: | CN203720500U | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 桥本和重;新井敏成;富塚吉博 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02B5/30 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘宗杰;吕琳 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种光取向用偏振照射装置,其即使长期使用也可抑制线栅偏振器或特定波长选择滤波器的性能劣化,且耐久性高。本实用新型的光取向用偏振照射装置(1),其沿着形成取向膜的基板(W)的宽度方向延伸设置光照射部(2),一边沿着与基板(W)的宽度方向交叉的扫描方向(S)扫描基板(W)或光照射部(2),一边向基板(W)上照射特定波长的偏振光,所述光照射部(2)具备光源(20)、特定波长选择滤波器(21)以及线栅偏振器(22),其中,光照射部(2)具备包覆线栅偏振器(22)的导电体栅格(22B)的防氧化膜(22C),且具备对线栅偏振器(22)进行冷却的空冷装置(23)。 | ||
搜索关键词: | 取向 偏振 照射 装置 | ||
【主权项】:
一种光取向用偏振照射装置,其沿着形成取向膜的基板的宽度方向延伸设置光照射部,一边沿着与所述基板的宽度方向交叉的扫描方向扫描所述基板或所述光照射部,一边向所述基板上照射特定波长的偏振光,所述光照射部具备光源、特定波长选择滤波器以及线栅偏振器,所述光取向用偏振照射装置的特征在于,所述光照射部具备包覆所述线栅偏振器的导电体栅格的防氧化膜,所述光照射部具备对所述线栅偏振器进行冷却的空冷装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社V技术,未经株式会社V技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420086932.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种能分解转台压力的装置
- 下一篇:一种鞍形垫圈加工装置