[实用新型]光取向用偏振照射装置有效

专利信息
申请号: 201420086932.8 申请日: 2014-02-27
公开(公告)号: CN203720500U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 桥本和重;新井敏成;富塚吉博 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02B5/30
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 刘宗杰;吕琳
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种光取向用偏振照射装置,其即使长期使用也可抑制线栅偏振器或特定波长选择滤波器的性能劣化,且耐久性高。本实用新型的光取向用偏振照射装置(1),其沿着形成取向膜的基板(W)的宽度方向延伸设置光照射部(2),一边沿着与基板(W)的宽度方向交叉的扫描方向(S)扫描基板(W)或光照射部(2),一边向基板(W)上照射特定波长的偏振光,所述光照射部(2)具备光源(20)、特定波长选择滤波器(21)以及线栅偏振器(22),其中,光照射部(2)具备包覆线栅偏振器(22)的导电体栅格(22B)的防氧化膜(22C),且具备对线栅偏振器(22)进行冷却的空冷装置(23)。
搜索关键词: 取向 偏振 照射 装置
【主权项】:
一种光取向用偏振照射装置,其沿着形成取向膜的基板的宽度方向延伸设置光照射部,一边沿着与所述基板的宽度方向交叉的扫描方向扫描所述基板或所述光照射部,一边向所述基板上照射特定波长的偏振光,所述光照射部具备光源、特定波长选择滤波器以及线栅偏振器,所述光取向用偏振照射装置的特征在于,所述光照射部具备包覆所述线栅偏振器的导电体栅格的防氧化膜,所述光照射部具备对所述线栅偏振器进行冷却的空冷装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社V技术,未经株式会社V技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420086932.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top