[实用新型]一种清洁设备有效
| 申请号： | 201420129816.X | 申请日： | 2014-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN203811982U | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 王守坤;郭会斌;冯玉春;张小祥;刘晓伟;郭总杰 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种清洁设备，包括：一箱体；设置于所述箱体内，位置可移动的清洁装置；设置于所述箱体内用于承载待清洁掩膜板的承载装置；检测装置，用于对所述待清洁掩膜板的所有检测点进行检测，获取一检测结果；控制器，用于根据所述检测结果控制所述清洁装置对所述待清洁掩膜板上存在的灰尘进行定点清除。本实用新型的有益效果是：检测装置发现灰尘的具体位置、通过可移动的清洁装置定点清除灰尘，以在曝光工艺中提高产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 设备 | ||
【主权项】：
一种清洁设备，其特征在于，包括： 一箱体； 设置于所述箱体内，位置可移动的清洁装置； 设置于所述箱体内用于承载待清洁掩膜板的承载装置； 检测装置，用于对所述待清洁掩膜板的所有检测点进行检测，获取一检测结果； 控制器，用于根据所述检测结果控制所述清洁装置对所述待清洁掩膜板上存在的灰尘进行定点清除。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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