[实用新型]用于收集晶片表面液滴的装置有效
| 申请号： | 201420134599.3 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN203772588U | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 张权;赵建锋;唐毅 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/10 | 分类号： | G01N1/10 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种用于收集晶片表面液滴的装置，包括液滴收集腔和抽真空装置，所述液滴收集腔和所述抽真空装置通过连接管相连，在所述液滴收集腔正下方设置液滴收集管，所述液滴收集管的数量为五个，其中一个所述液滴收集管位于所述液滴收集腔正下方的中心位置，其余四个所述液滴收集管位于以所述液滴收集腔正下方的中心为圆心的圆周上。本实用新型用于收集晶片表面液滴的装置采用多根收集管并列同时使用，在确保收集管均匀分散排列的情况下即可扩大收集液滴的范围，保证液滴实现完全收集。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 收集 晶片 表面 装置 | ||
【主权项】：
一种用于收集晶片表面液滴的装置，包括液滴收集腔和抽真空装置，所述液滴收集腔和所述抽真空装置通过连接管相连，在所述液滴收集腔正下方设置液滴收集管，其特征在于：所述液滴收集管的数量为五个，其中一个所述液滴收集管位于所述液滴收集腔正下方的中心位置，其余四个所述液滴收集管位于以所述液滴收集腔正下方的中心为圆心的圆周上。
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