[实用新型]一种真空沉积聚对二甲苯膜的恒速蒸发腔体有效
申请号: | 201420136762.X | 申请日: | 2014-03-25 |
公开(公告)号: | CN203878208U | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 侯光辉 | 申请(专利权)人: | 侯光辉 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 东莞市创益专利事务所 44249 | 代理人: | 李卫平 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型主要涉及真空沉积防水膜装置制作领域,尤其涉及真空沉积聚对二甲苯膜的恒速蒸发腔体制作领域。一种真空沉积聚对二甲苯膜的恒速蒸发腔体,包括一恒速蒸发腔体,所述恒速蒸发腔体内设有一仅底面与恒速蒸发腔体接触的聚对二甲苯靶管,所述聚对二甲苯靶管包括一由重力压缩聚对二甲苯粉末而成的聚对二甲苯靶材、一循环水冷却系统、靶管上盖和靶管下盖,所述循环水冷却系统设在所述聚对二甲苯靶材的内部,所述靶管上盖和靶管下盖分别设于聚对二甲苯靶材和循环水冷却系统的上下方,所述聚对二甲苯靶管外侧套有一电磁辐射加热圆筒。本实用新型可保持稳定的升华量,且可很好地解决加热滞后性的问题,还可防止聚对二甲苯粉末被抽到沉积室内。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 沉积 二甲苯 蒸发 | ||
【主权项】:
一种真空沉积聚对二甲苯膜的恒速蒸发腔体,其特征在于:包括一恒速蒸发腔体,所述恒速蒸发腔体内设有一仅底面与恒速蒸发腔体接触的聚对二甲苯靶管,所述聚对二甲苯靶管包括一由重力压缩聚对二甲苯粉末而成的聚对二甲苯靶材、一循环水冷却系统、靶管上盖和靶管下盖,所述循环水冷却系统设在所述聚对二甲苯靶材的内部,所述靶管上盖和靶管下盖分别设于聚对二甲苯靶材和循环水冷却系统的上下方,所述聚对二甲苯靶管外侧套有一电磁辐射加热圆筒。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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