[实用新型]一种用于曝光的掩模台有效
| 申请号： | 201420227106.0 | 申请日： | 2014-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN203825364U | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 李高荣;刘洋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于曝光工艺的掩模台，所述掩模台至少包括结构：底座；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模X方向的第一定位件；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模Y方向的第二定位件；所述第一定位件为真空夹具，所述真空夹具设置于所述光掩模两侧的下表面；所述第二夹持件为设置在光掩模Y方向上两侧的若干对机械夹具。本实用新型通过在光掩模Y方向上设置若干对机械夹具对所述光掩模进行限制，避免光掩模沿Y方向发生热膨胀导致图形叠加错误。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 曝光 掩模台 | ||
【主权项】：
一种用于曝光的掩模台，其特征在于，所述用于曝光的掩模台至少包括：底座；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模X方向的第一定位件；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模Y方向的若干对第二定位件。
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