[实用新型]覆铜箔设备

摘要

本实用新型公开了一种覆铜箔设备，上输送装置平行位于下输送装置上方，位于上、下输送装置前方一端的结合平台纵向能升降，两个结合支架分别位于结合平台左右方向两侧的上方，钢板平台位于结合平台前方的一端，上、下吸取装置分别能够沿纵向和前后方向往复移动，上吸取装置上设有两个沿纵向延伸的上吸盘，下吸取装置上设有两沿纵向延伸的下吸盘，两上吸盘分别分布于上输送装置左右两侧，两个下吸盘分别分布于下输送装置左右两侧，上、下吸盘上分别设有若干与上、下输送带上铜箔相对应的上、下吸嘴，钢板输送装置能够将钢板平台上的钢板移动到结合支架上，本实用新型有效的提高了生产效率，避免了下铜箔在移动过程中与其它结构发生摩擦导致损伤。

主权项

一种覆铜箔设备，包括底座(10)、上、下输送装置(20、30)、结合平台(40)、结合支架(50)、钢板平台(60)、钢板输送装置(90)和上、下吸取装置(70、80)，以使用方向为基准，上、下输送装置分别定位于底座上，且上输送装置平行位于下输送装置的上方，设上下输送装置输送方向为前后方向，设水平面上垂直与上下输送装置的输送方向的方向为左右方向，结合平台纵向能够升降定位于底座上，且结合平台位于上、下输送装置前方的一端，两个结合支架固定定位于底座上，且该两个结合支架分别位于结合平台左右方向两侧的上方，钢板平台固定于底座上，且钢板平台位于结合平台前方的一端，上、下吸取装置分别能够沿纵向和前后方向往复移动定位于底座上，上吸取装置上设有两个沿纵向延伸的上吸盘(71)，下吸取装置上设有两个沿纵向延伸的下吸盘(81)，两个上吸盘分别分布于上输送装置的左右两侧，两个下吸盘分别分布于下输送装置的左右两侧，上、下吸盘上分别设有若干与上、下输送带上铜箔相对应的上、下吸嘴(711、813)，钢板输送装置能够将钢板平台上的钢板移动到结合支架上。