[实用新型]一种带有再钝化层开槽的Low-K芯片封装结构有效

专利信息
申请号: 201420277483.5 申请日: 2014-05-28
公开(公告)号: CN203882993U 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 张爱兵;郭洪岩;张黎;赖志明;陈锦辉 申请(专利权)人: 江阴长电先进封装有限公司
主分类号: H01L23/49 分类号: H01L23/49
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 彭英
地址: 214429 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种带有再钝化层开槽的Low-K芯片封装结构,属于半导体封装技术领域。其包括表面设置有芯片电极(110)的硅基体(101),芯片表面钝化层(120)的表面设置再钝化层(200),再钝化层(200)于芯片电极(110)的正上方设置再钝化层开口(201),再钝化层开口(201)的尺寸边界不大于芯片表面钝化层开口(121)的尺寸边界,且露出芯片电极(110)的表面,再钝化层开口(201)内设置芯片引脚(400);再钝化层(200)于芯片引脚(400)的一侧设置再钝化层开槽(202),所述再钝化层开槽(202)沿芯片引脚(400)的功能区域边界延伸至整个再钝化层(200)。本实用新型的芯片封装结构有效地降低了产品自身应力,提高了产品可靠性。
搜索关键词: 一种 带有 钝化 开槽 low 芯片 封装 结构
【主权项】:
一种带有再钝化层开槽的Low‑K芯片封装结构,其包括表面设置有若干个芯片电极(110)的硅基体(101),所述硅基体(101)的上表面附着有芯片表面钝化层(120),所述芯片表面钝化层(120)于芯片电极(110)的正上方设有芯片表面钝化层开口(121),所述芯片表面钝化层开口(121)露出芯片电极(110)的表面, 其特征在于:所述芯片表面钝化层(120)的表面设置再钝化层(200),所述再钝化层(200)于芯片电极(110)的正上方设置再钝化层开口(201),所述再钝化层开口(201)的尺寸边界不大于芯片表面钝化层开口(121)的尺寸边界,且露出芯片电极(110)的表面,所述再钝化层开口(201)的内壁以及裸露的芯片电极(110)的表面设置金属溅射层(311),所述金属溅射层(311)的表面固定连接芯片引脚(400);全部所述芯片引脚(400)按功能划分区域,形成功能区域边界;还包括再钝化层开槽(202),所述再钝化层开槽(202)沿功能区域边界延伸至整个再钝化层(200)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江阴长电先进封装有限公司,未经江阴长电先进封装有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420277483.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top