[实用新型]显影装置有效
| 申请号： | 201420304356.X | 申请日： | 2014-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN203882093U | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 伍强;孔德平;郝静安 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种显影装置，所述显影装置至少包括：晶圆基台以及位于晶圆基台上方的清洗盘，所述清洗盘适于在所述晶圆基台上方上下移动；所述清洗盘包括朝向所述晶圆基台的第一表面，所述第一表面上均匀的分布有至少两个喷嘴和至少两个吸嘴，所述喷嘴适于朝所述晶圆基台上搁置的晶圆表面喷洒去离子水，所述吸嘴适于通过抽真空吸取所述晶圆基台上搁置的晶圆表面的液体；所述喷嘴的数量少于吸嘴。本实用新型提供的显影装置进行的清洗过程中，可以用吸嘴吸走多余的去离子水，不需要采用高速旋转的方式甩掉去离子水，避免了高速甩出晶圆表面的去离子水产生静电，以及显影残留物由于旋转经过过多的晶圆表面而造成的可能残留。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 装置 | ||
【主权项】：
一种显影装置，其特征在于，所述显影装置至少包括： 晶圆基台以及位于晶圆基台上方的清洗盘，所述清洗盘适于在所述晶圆基台上方上下移动； 所述清洗盘包括朝向所述晶圆基台的第一表面，所述第一表面上均匀的分布有至少两个喷嘴和至少两个吸嘴，所述喷嘴适于朝所述晶圆基台上搁置的晶圆表面喷洒去离子水，所述吸嘴适于通过抽真空吸取所述晶圆基台上搁置的晶圆表面的液体； 所述喷嘴的数量少于吸嘴。
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