[实用新型]用于制备抗PID薄膜的装置有效

专利信息
申请号: 201420327266.2 申请日: 2014-06-18
公开(公告)号: CN203910835U 公开(公告)日: 2014-10-29
发明(设计)人: 万松博;王栩生;章灵军 申请(专利权)人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 代理人: 陆金星
地址: 215129 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种用于制备抗PID薄膜的装置,包括臭氧发生器和箱体,箱体内具有密闭的容置空间;所述箱体侧面设有门;所述门的底部与箱体铰接;门和箱体之间设有开门限位器,使门打开的角度为45~90度;所述门的内表面设有至少1对支架,所述支架与小花篮配合,使小花篮挂设于支架上,且关门时小花篮在箱体内处于竖直状态。本实用新型装置适用于目前采用干法刻蚀的太阳能电池片生产线,该装置可以直接对装载在小花篮里面的硅片进行处理,无需任何附加的上下片操作,因此不会增加碎片风险。
搜索关键词: 用于 制备 pid 薄膜 装置
【主权项】:
一种用于制备抗PID薄膜的装置,其特征在于:包括臭氧发生器和箱体(1),箱体内具有密闭的容置空间;所述箱体侧面设有门(2);所述箱体的顶部设有进气孔,底部设有排气孔;所述门的底部与箱体铰接;门和箱体之间设有开门限位器(3),使门打开的角度为45~90度;所述门的内表面设有至少1对支架(4),所述支架与小花篮(5)配合,使小花篮挂设于支架上,且关门时小花篮在箱体内处于竖直状态。
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