[实用新型]高纯平面铝钕靶的制作装置有效

专利信息
申请号: 201420335124.0 申请日: 2014-06-20
公开(公告)号: CN203947156U 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 胡习光;秦国强;常金永;张志祥 申请(专利权)人: 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;B22D21/04
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅;刘海
地址: 214437 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种高纯平面铝钕靶的制作装置,包括真空炉体外壳,在真空炉体外壳的内部设置炉体,炉体上部设置炉盖;特征是:所述炉体包括炉胆和设置在炉胆外表面的保温层,在炉胆的内壁设置电炉丝,在炉胆的底部设置冷却底座,冷却底座的上放置模具,冷却底座的上表面呈锯齿状,在冷却底座上设置冷却水通道,冷却水通道两端分别与冷却水进水管和冷却水出水管连接;在所述炉盖上设置通气孔,在真空炉体外壳的顶部设置通气管,在真空炉体外壳的中部设置抽气管。本实用新型所述高纯平面铝钕靶的制作装置,可以生产得到晶粒取向一致的铝钕靶,在真空磁控溅射时可以得到更加均匀的膜层。
搜索关键词: 高纯 平面 铝钕靶 制作 装置
【主权项】:
一种高纯平面铝钕靶的制作装置,包括真空炉体外壳(9),在真空炉体外壳(9)的内部设置炉体(2),炉体(2)上部设置炉盖(1);其特征是:所述炉体(2)包括炉胆(5)和设置在炉胆(5)外表面的保温层(4),在炉胆(5)的内壁设置电炉丝(12),在炉胆(5)的底部设置冷却底座(16),冷却底座(16)的上放置模具,冷却底座(16)的上表面呈锯齿状,在冷却底座(16)上设置冷却水通道,冷却水通道两端分别与冷却水进水管(6)和冷却水出水管(13)连接;在所述炉盖(1)上设置通气孔(7),在真空炉体外壳(9)的顶部设置通气管(15),在真空炉体外壳(9)的中部设置抽气管(11)。
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