[实用新型]一种应用在管式PECVD中的特气管有效
| 申请号： | 201420360484.6 | 申请日： | 2014-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN203960328U | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 沈少杰 | 申请（专利权）人： | 苏州矽美仕绿色新能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 韩国胜;张海英 |
| 地址： | 215400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用在管式PECVD中的特气管，包括具有进气口和出气口的管体，所述管体包括至少一段呈螺旋弹簧状弯曲结构的螺旋管和两段第一直管，所述进气口通过其中一段第一直管与螺旋管连接，所述出气口通过另一段第一直管与螺旋管连接，所述第一直管与螺旋管一体成型。与现有技术相比，本特气管含有一段呈螺旋弹簧状弯曲结构的螺旋管，其利用类似于“螺旋弹簧”减震原理而起到缓冲作用，可以很大程度上减小管式PECVD工作时对特气管的影响，从而避免了特气管因振动而破损漏气的状况，延长了使用寿命，节约了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用 pecvd 中的 气管 | ||
【主权项】：
一种应用在管式PECVD中的特气管，包括具有进气口(4)和出气口(5)的管体，其特征在于：所述管体包括至少一段呈螺旋弹簧状弯曲结构的螺旋管(2)和两段第一直管(3)，所述进气口(4)通过其中一段第一直管(3)与螺旋管(2)连接，所述出气口(5)通过另一段第一直管(3)与螺旋管(2)连接，所述第一直管(3)与螺旋管(2)一体成型，所述螺旋管(2)具有至少一个螺旋圈体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州矽美仕绿色新能源有限公司，未经苏州矽美仕绿色新能源有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420360484.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
