[实用新型]发光二极管以及包括其的发光二极管模块有效

专利信息
申请号: 201420613865.0 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN204348750U 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 郭德博;徐正毅 申请(专利权)人: 北京中科天顺信息技术有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/38;H01L33/40;H01L33/48
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102206 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种发光二极管以及包括其的发光二极管模块。发光二极管包括:非掺杂层;依次形成在非掺杂层上的N型半导体层、量子阱发光层以及P型半导体层;开槽,从P型半导体层表面延伸到N型半导体层表面或延伸到N型半导体层中;P型欧姆接触层,形成在开槽后剩余的P型半导体层上;绝缘介质膜,形成在开槽的侧壁和P型欧姆接触层上;金属层,形成在开槽底部的N型半导体部以及绝缘介质膜上;支撑衬底,形成在金属层上;第一盲孔和第二盲孔,第一盲孔从非掺杂层表面延伸到P型欧姆接触层表面,第二盲孔从非掺杂层表面延伸到金属层表面;P型及N型压焊部,分别形成在露出的P型欧姆接触层以及金属层上。
搜索关键词: 发光二极管 以及 包括 模块
【主权项】:
一种发光二极管,其特征在于,该发光二极管包括:非掺杂层;依次形成在该非掺杂层上的N型半导体层、量子阱发光层以及P型半导体层;开槽,从该P型半导体层表面延伸到该N型半导体层表面或延伸到该N型半导体层中,开槽后剩余的P型半导体层、量子阱发光层及N型半导体层分别为P型半导体部、量子阱发光部及N型半导体部;P型欧姆接触层,形成在该P型半导体部上;绝缘介质膜,形成在该开槽的侧壁和该P型欧姆接触层上;金属层,形成在该开槽底部的N型半导体部以及该绝缘介质膜上;支撑衬底,形成在该金属层上;第一盲孔和第二盲孔,该第一盲孔从非掺杂层表面延伸到P型欧姆接触层表面,该第二盲孔从非掺杂层表面延伸到金属层表面;P型及N型压焊部,分别形成在露出的P型欧姆接触层以及金属层上。
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