[实用新型]一种应用于晶硅太阳能电池的光刻系统

摘要

本实用新型公开了一种应用于晶硅太阳能电池的光刻系统，包括：用于对硅片的正面进行预处理的预处理装置；用于对硅片的正面涂布光刻胶的涂布设备；用于对硅片进行软烘焙处理的软烘焙设备；用于对硅片进行对准和曝光的曝光机；用于对硅片进行后烘焙处理的后烘焙设备；用于在硅片的表面喷洒显影液的喷洒设备；用于对硅片进行硬烘焙处理的硬烘焙设备；用于对硅片表面进行刻蚀的刻蚀设备；用于去除硅片表面的光刻胶的清除设备。本实用新型可以在硅片表面形成完整一致性的抗反射绒面，延长太阳光在电池表面的传播路径，增加电池对太阳光的吸收率，提高电池转换效率。

主权项

一种应用于晶硅太阳能电池的光刻系统，其特征在于，包括：用于对硅片的正面进行预处理的预处理装置；与所述预处理装置相连接，用于对硅片的正面涂布光刻胶的涂布设备；与所述涂布设备相连接，用于对硅片进行软烘焙处理的软烘焙设备；与所述软烘焙设备相连接，用于对硅片进行对准和曝光的曝光机；与所述曝光机相连接，用于对硅片进行后烘焙处理的后烘焙设备；与所述后烘焙设备相连接，用于在硅片的表面喷洒显影液的喷洒设备；与所述喷洒设备相连接，用于对硅片进行硬烘焙处理的硬烘焙设备；与所述硬烘焙设备相连接，用于对硅片表面进行刻蚀的刻蚀设备；与所述刻蚀设备相连接，用于去除硅片表面的光刻胶的清除设备。