[实用新型]真空离子镀膜设备

摘要

本实用新型是一种真空离子镀膜设备。包括镀膜炉和镀膜平台，镀膜炉的外围设置有保温过渡炉，保温过渡炉外设置有外罩体，外罩体的顶部设置有第一开合顶窗，保温过渡炉的顶部设置有第二开合顶窗，镀膜炉的顶部设置有第三开合顶窗，外罩体外设置有能够使镀膜炉形成真空的真空泵，镀膜炉内设置有离子源，待镀膜的玻璃片能够从第一开合顶窗、第二开合顶窗、第三开合顶窗送入到镀膜平台上，镀膜炉内还设置有膜料，离子源能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上。其优点是：使膜料成为膜料蒸汽，均匀镀在玻璃片上，有利于增强膜层强度，使其镀膜平整度、均匀度大大提高，还可以在镀完膜后出炉过程中使其具有过渡作用，有利于提高镀膜强度和镀膜质量。

主权项

一种真空离子镀膜设备，包括镀膜炉（1），设置在镀膜炉内的镀膜平台（2），其特征在于：所述镀膜炉（1）的外围设置有保温过渡炉（3），所述保温过渡炉（3）外设置有外罩体（4），所述外罩体（4）的顶部设置有由动力装置启闭的第一开合顶窗（5），保温过渡炉（3）的顶部设置有由动力装置启闭的第二开合顶窗（6），镀膜炉（1）的顶部设置有由动力装置启闭的第三开合顶窗（7），所述外罩体（4）外设置有能够使镀膜炉形成真空的真空泵（8），所述镀膜炉（1）内设置有能够发射等离子体的离子源（9），待镀膜的玻璃片能够从第一开合顶窗（5）、第二开合顶窗（6）、第三开合顶窗（7）送入到镀膜平台上，所述镀膜炉（1）内还设置有位于镀膜平台四周的膜料（10），所述离子源（9）能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上。