[发明专利]基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置有效
| 申请号： | 201480003545.6 | 申请日： | 2014-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN104871118B | 公开（公告）日： | 2017-07-18 |
| 发明（设计）人： | 文程昱;金正祐;全成浩;崔大胜 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司11225 | 代理人： | 朱梅,李海明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置。更具体地，本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置，所述基膜包含具有基于环烯烃重复单元的聚合物，所述环烯烃重复单元具有特定含量以上的外型异构体；以及基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物。所述基膜是透明的，由于具有高的玻璃化转变温度使得耐热性优异，并具有高透光率。 | ||
| 搜索关键词： | 基膜 包括 层压 结构 以及 显示装置 | ||
【主权项】：
一种基膜，其包含：具有基于环烯烃的重复单元的聚合物；和包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物；其中，在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上，并且在所述基膜上形成透明的基于金属氧化物的导电膜，其中，所述基膜的玻璃化转变温度为250℃以上，并且在400至800nm下透光率为90％以上。
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