[发明专利]无规结构GIC的制造方法、薄片化石墨分散液的制造方法、薄片化石墨分散液及薄片化石墨有效
| 申请号： | 201480003707.6 | 申请日： | 2014-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN104870364B | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 和田拓也;中寿贺章;豊田昌宏 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社;国立大学法人大分大学 |
| 主分类号： | C01B32/225 | 分类号： | C01B32/225;C01B32/19 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种无规结构GIC的制造方法，其可通过剥离处理容易地得到石墨烯叠层状态的规则性少、叠层数少的薄片化石墨。所述制造方法具备准备在石墨烯层间插入有碱金属的碱金属‑GIC的工序和在非氧化性气氛下使极性质子性溶剂与上述碱金属‑GIC接触的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 gic 制造 方法 薄片 化石 分散 | ||
【主权项】：
一种薄片化石墨分散液的制造方法，其包括以下工序：通过下述无规结构GIC的制造方法得到无规结构GIC的工序；在所述无规结构GIC中添加含有表面活性剂的极性溶剂的工序；以及在所述含有表面活性剂的极性溶剂中添加所述无规结构GIC之后，在添加了所述无规结构GIC的所述含有表面活性剂的极性溶剂中对所述无规结构GIC进行剥离处理的工序，所述无规结构GIC的制造方法包括以下工序：准备碱金属‑GIC的工序，所述碱金属‑GIC是在石墨烯层间插入了碱金属而得到的；以及在非氧化性气氛下使极性质子性溶剂与所述碱金属‑GIC接触的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于积水化学工业株式会社;国立大学法人大分大学，未经积水化学工业株式会社;国立大学法人大分大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480003707.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
