[发明专利]防反射膜及其制造方法有效
申请号: | 201480006539.6 | 申请日: | 2014-01-27 |
公开(公告)号: | CN104956241B | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 岸敦史;上野友德;仓本浩贵 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;B32B7/02;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种可以高生产率且低成本制造、在宽带域中具有优异的反射性能(低反射性)、且具有接近中性的优异的反射色相、进而具有优异的机械特性的防反射膜。本发明的防反射膜具有基材、与自基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层。基材的折射率为1.45~1.65的范围,中折射率层是通过在基材上涂布包含粘合剂树脂与无机微粒的中折射率层形成用组合物并进行固化而形成,其折射率为1.67~1.78的范围,厚度为70nm~120nm,高折射率层的折射率为2.00~2.60的范围,厚度为10nm~25nm,低折射率层的折射率为1.35~1.55的范围,厚度为70nm~120nm。 | ||
搜索关键词: | 折射率 基材 防反射膜 折射率层 低折射率层 高折射率层 形成用组合物 粘合剂树脂 低反射性 反射性能 无机微粒 低成本 宽带域 色相 反射 固化 制造 | ||
【主权项】:
一种防反射膜,其具有基材和自所述基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层,所述基材的折射率为1.45~1.65的范围,所述中折射率层是通过在所述基材上涂布包含粘合剂树脂与无机微粒的中折射率层形成用组合物并进行固化而形成的,并且折射率为1.67~1.78的范围,厚度为70nm~120nm,所述高折射率层的折射率为2.00~2.60的范围,厚度为14nm~25nm,所述低折射率层的折射率为1.35~1.55的范围,厚度为70nm~120nm,所述防反射膜的反射色相在CIE‑Lab表色系统中为0≤a*≤15、‑20≤b*≤0。
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