[发明专利]使用可流动式CVD膜的HDD图案化

摘要

提供了用于形成图案化的磁性基板的方法和装置。将图案化的抗蚀部形成于基板的磁致激活表面上。通过可流动式CVD工艺将氧化物层形成在所述图案化的抗蚀部之上。蚀刻所述氧化物层，以使所述图案化的抗蚀部的部分暴露出来。随后，使用经蚀刻的氧化物层作为掩模来对所述图案化的抗蚀部进行蚀刻，以使所述磁致激活表面的部分暴露出来。随后，通过引导能量穿过经蚀刻的抗蚀层和经蚀刻的氧化物层，对所述磁致激活表面的暴露部分的磁特性进行改性，然后，将所述经蚀刻的抗蚀层和所述经蚀刻的氧化物层从所述基板去除。

主权项

一种形成图案化的磁性基板的方法，所述方法包括：在基板的磁致激活表面上形成图案化的抗蚀部；通过可流动式CVD工艺在所述图案化的抗蚀部上形成氧化物层；通过蚀刻所述氧化物层以形成具有开口的经蚀刻的氧化物层，以暴露所述图案化的抗蚀部的部分；通过使用所述经蚀刻的氧化物层作为掩模来蚀刻所述图案化的抗蚀部以形成具有开口的经蚀刻的抗蚀层，以暴露所述磁致激活表面的部分；通过引导能量穿过所述经蚀刻的抗蚀层的所述开口和所述经蚀刻的氧化物层的所述开口，对所述磁致激活表面的暴露部分的磁特性进行改性；以及将所述经蚀刻的抗蚀层和所述经蚀刻的氧化物层从所述基板去除。