[发明专利]用于半导体封装的衬底及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201480009839.X 申请日: 2014-01-21
公开(公告)号: CN105009276A 公开(公告)日: 2015-10-28
发明(设计)人: A·森;林少雄 申请(专利权)人: A·森;林少雄
主分类号: H01L23/12 分类号: H01L23/12;H01L23/31;H01L23/485;H01L21/50
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 新加坡*** 国省代码: 新加坡;SG
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摘要: 提供了一种形成用于半导体封装的衬底(10)的方法及用于半导体封装的衬底(10)。该方法包括提供载体(12)及在载体(12)上形成多个外垫(14),形成在载体(12)上的外垫(14)限定了第一导电层。实施模塑操作以便在载体(12)上以模塑化合物(22)形成第一绝缘层(20)。该第一导电层被埋在第一绝缘层(20)中。在该第一导电层上形成多个接合垫(30)、多个导电线路(32)及多个微通孔(56)中的一个或多个,且形成在该第一导电层上的接合垫(30)、导电线路(32)及微通孔(56)中的一个或多个限定了第二导电层。
搜索关键词: 用于 半导体 封装 衬底 及其 形成 方法
【主权项】:
一种形成用于半导体封装的衬底的方法,所述方法包括:提供载体;在所述载体上形成多个外垫,且所述形成在载体上的外垫限定了第一导电层;实施模塑操作以便在所述载体上以模塑化合物形成第一绝缘层,其中所述第一导电层被埋在所述第一绝缘层中;以及在所述第一导电层上形成多个接合垫、多个导电线路及多个微通孔中的一个或多个,且所述形成在所述第一导电层上的接合垫、导电线路及微通孔中的一个或多个限定了第二导电层。
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