[发明专利]烧结体、包含该烧结体的磁记录膜形成用溅射靶有效
| 申请号： | 201480011201.X | 申请日： | 2014-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN105026589B | 公开（公告）日： | 2017-07-18 |
| 发明（设计）人： | 高见英生;中村祐一郎;池田祐希;荻野真一 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C22C32/00 | 分类号： | C22C32/00;B22F3/11;C22C5/04;C22C19/07;C22C33/02;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 王海川,穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种烧结体，其至少含有钴作为金属、且包含硼和/或选自铂族元素中的一种以上金属或合金以及氧化物，其特征在于，在包含所述氧化物的相中含有Cr(BO3)、Co2B2O5、Co3B2O6中的至少一种以上。在靶中存在Cr(BO3)、Co2B2O5、Co3B2O6这些化合物的烧结体能够保持微细的组织，并且能够得到包含对水稳定的烧结体的磁记录膜形成用烧结体。 | ||
| 搜索关键词： | 烧结 包含 记录 形成 溅射 | ||
【主权项】：
一种烧结体，其至少含有钴作为金属、且包含硼和/或选自铂族元素中的一种以上金属或合金以及氧化物，其特征在于，在包含所述氧化物的相中存在Cr(BO3)、Co2B2O5、Co3B2O6中的至少一种以上，硼与氧的原子比为B/O≤0.5。
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