[发明专利]气体阻隔膜、气体阻隔膜的制造方法、及有机电致发光元件在审
| 申请号： | 201480012546.7 | 申请日： | 2014-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN105026141A | 公开（公告）日： | 2015-11-04 |
| 发明（设计）人： | 井宏元 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/04;H05B33/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及气体阻隔膜、气体阻隔膜的制造方法、及有机电致发光元件，所述有机电致发光元件具备气体阻隔膜、成对的电极和在电极间具有至少1层发光层的有机功能层。所述气体阻隔膜具备基材、硅化合物的蒸镀层和聚硅氮烷改性层，所述硅化合物的蒸镀层含有选自碳(C)、氮(N)、及氧(O)中的至少1种以上的元素，从表面向厚度方向具有连续的组成变化，且被表面处理了。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 制造 方法 有机 电致发光 元件 | ||
【主权项】：
一种气体阻隔膜，其具备：基材；硅化合物的蒸镀层，所述蒸镀层含有选自碳(C)、氮(N)及氧(O)的至少1种以上的元素、从表面向厚度方向具有连续的组成变化、且被表面处理；和聚硅氮烷改性层。
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