[发明专利]脱模性能恢复液、脱模性能恢复方法及光掩模在审
| 申请号： | 201480021181.4 | 申请日： | 2014-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN105121588A | 公开（公告）日： | 2015-12-02 |
| 发明（设计）人： | 根岸朋子;中村薰;栗岛进;平松弘 | 申请（专利权）人： | 木本股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/00 | 分类号： | C09K3/00;C08L83/04;G03F1/48 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种脱模性能恢复液，其在含硅油的涂膜所具有的脱模性能降低时，可用于使该降低的脱模性能恢复。脱模性能恢复液仅以性能恢复成分与溶剂构成，且性能恢复成分以反应性硅油及非反应性硅油所构成。反应性硅油相对于1重量份的非反应性硅油，优选含有3～5重量份的量。性能恢复成分与溶剂的重量比例优选为4∶96～6∶94。 | ||
| 搜索关键词： | 脱模 性能 恢复 方法 光掩模 | ||
【主权项】：
一种脱模性能恢复液，其特征在于，其是用来使含硅油的涂膜的降低了的脱模性能恢复的脱模性能恢复液，仅由性能恢复成分和溶剂构成，所述性能恢复成分以反应性硅油及非反应性硅油构成。
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