[发明专利]带防反射层的基材有效
| 申请号： | 201480023346.1 | 申请日： | 2014-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN105143924B | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 石关健二;矶部辉;畑中百纪;河合洋平;米田贵重;阿部启介 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113;C01B33/18 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 胡烨,刘多益 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种防反射特性优异、并且具有高拒水性、拒油性和良好的油脂污垢除去性的带防反射层的基材、以及具有带防反射层的基材的显示装置。本发明是一种带防反射层的基材以及具有带防反射层的基材的显示装置，该带防反射层的基材是在基材的至少一方的表面上具有防反射层的带防反射层的基材，所述防反射层包括具有含氟有机基团的二氧化硅类多孔质膜，在采用扫描型X射线光电子能谱法(ESCA)的表面分析中，防反射层的与基材相反的一侧的表面的由F1s的峰高和Si2p的峰高求得的元素数比F/Si在1以上，且具有3.0nm以下的算术平均粗糙度(Sa)。 | ||
| 搜索关键词： | 反射层 基材 | ||
【主权项】：
一种带防反射层的基材，其是在基材的至少一方的表面上具有防反射层的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层包括具有含氟有机基团的二氧化硅类多孔质膜，在采用扫描型X射线光电子能谱法(ESCA)的表面分析中，防反射层的与基材相反的一侧的表面的由F1s的峰高和Si2p的峰高求得的元素数比F/Si在1以上，且具有3.0nm以下的算术平均粗糙度(Sa)，所述防反射层包含直径20nm以上的空孔，且防反射层的与基材相反的一侧的表面的开口数在13个/106nm2以下，所述防反射层中，自直径20nm以上的独立孔起到防反射层的与基材相反的一侧的表面为止的最短距离的平均值为10～80nm。
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