[发明专利]RF处理系统的校准有效
| 申请号： | 201480029082.0 | 申请日： | 2014-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN105230119B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 伊扎克·柴莫弗;阿夫纳·李伯曼 | 申请（专利权）人： | 高知有限公司 |
| 主分类号： | H05B6/02 | 分类号： | H05B6/02;H05B6/12 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;郑霞 |
| 地址： | 百慕大*** | 国省代码： | 百慕大群岛;BM |
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| 摘要： | 提供了用于处理在一个腔中的一个物体的设备和方法。这些设备包括被配置成用于将用于施加的RF能量供应到一个或多个辐射元件的至少一个射频(RF)能量供应部件，该一个或多个辐射元件被配置成用于响应于该施加的RF能量来发射RF辐射。在一些实施例中，一种提供的设备还包括一个存储器，该存储器存储与该RF能量供应部件关联的一组系数；以及一个处理器，该处理器被配置成用于响应于由该一个或多个辐射元件发射的RF辐射接收反馈，并且基于该反馈和该组系数来控制将RF能量施加到这些辐射元件中的一个或多个辐射元件。 | ||
| 搜索关键词： | rf 处理 系统 校准 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过由一个或多个辐射元件发射的射频(RF)辐射来处理腔中的物体的设备，该一个或多个辐射元件被配置成用于响应于施加到其上的RF能量来发射该射频辐射，该设备包括：至少一个RF能量供应部件，该至少一个RF能量供应部件被配置成用于将用于施加的RF能量供应到一个或多个辐射元件；一个存储器，该存储器存储至少一组系数，每组系数与一个对应的RF能量供应部件关联；以及一个处理器，该处理器被配置成用于响应于由这些辐射元件中的一个或多个辐射元件发射的RF辐射接收反馈，并且基于该反馈和该至少一组系数来控制将RF能量施加到这些辐射元件中的一个或多个辐射元件。
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