[发明专利]缺陷检查系统有效
| 申请号： | 201480030723.4 | 申请日： | 2014-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN105247351B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 末松绫子;井村圭太 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/892 | 分类号： | G01N21/892;G02B5/30;G02F1/13 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李洋;张丰桥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的缺陷检查系统具备：输送线，其输送长条带状的薄膜；缺陷检查装置，其进行被输送线输送的薄膜的缺陷检查；以及记录装置(13)，其将基于缺陷检查的结果的缺陷信息记录于被输送线输送的薄膜(F105)，记录装置(13)具有：打印头(13a)，其通过向沿着薄膜(F105)的端缘部的记录区域(S)喷出墨(i)来打印缺陷信息；以及罩(30)，其防止墨(i)附着于薄膜(F105)的至少比记录区域(S)靠内侧的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检查 系统 | ||
【主权项】：
1.一种缺陷检查系统，具备：/n输送线，其输送长条带状的光学薄膜；/n缺陷检查装置，其进行被上述输送线输送的光学薄膜的缺陷检查；以及/n记录装置，其将基于上述缺陷检查的结果的缺陷信息记录于被上述输送线输送的光学薄膜，/n上述记录装置具有：打印头，其通过向沿着上述光学薄膜的端缘部的记录区域喷出墨来打印上述缺陷信息；以及/n罩，其防止墨附着于上述光学薄膜的至少比上述记录区域靠内侧的区域，/n上述罩的与上述光学薄膜对置的面和上述光学薄膜的表面之间的间隔是1mm以下，/n上述罩使在上述光学薄膜与上述打印头相对置的空间中面向上述光学薄膜的外侧这侧开放，/n上述罩的下端部是沿着导辊的外形的形状。/n
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