[发明专利]具有钝化层的发光二极管有效

专利信息
申请号: 201480032470.4 申请日: 2014-06-05
公开(公告)号: CN105283967B 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 扎比内·沃马多普;马库斯·毛特 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/40;H01L33/44;H01L33/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁永凡;张春水
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用于制造光电子半导体芯片的方法。所述方法包括:在初始衬底(120)上构成半导体层序列(130)和对半导体层序列(130)结构化,其中构成呈隆起部的形式的、具有环绕的侧表面(239)的半导体结构(230,232),其方式是,移除包围半导体结构(230,232)的区域中的半导体层序列(130)的材料直至如下深度,使得在环绕的侧表面(239)上露出半导体层序列(130)的有源区(133)。所述方法还包括:构成钝化层(150),其中钝化层(150)设置在半导体结构(230,232)的环绕的侧表面(239)上;在构成钝化层(150)之后在半导体结构(230,232)的具有至少一个贯通孔(260)的区域中构成连接结构;将连接结构与载体衬底(125)连接;和移除初始衬底(120)。本发明还涉及一种光电子半导体芯片。
搜索关键词: 具有 钝化 发光二极管
【主权项】:
1.一种用于制造光电子半导体芯片的方法,所述方法包括如下方法步骤:在初始衬底(120)上构成半导体层序列(130),所述半导体层序列具有第一半导体区域和第二半导体区域(131,132)以及设置在其间的用于产生辐射的有源区(133);对所述半导体层序列(130)结构化,其中构成呈隆起部的形式的、具有环绕的侧表面(239)的半导体结构,其方式是,移除包围所述半导体结构的区域中的所述半导体层序列(130)的材料至少直至如下深度,使得在环绕的所述侧表面(239)上露出所述有源区(133);构成钝化层(150),其中所述钝化层(150)设置在所述半导体结构的环绕的所述侧表面(239)上;在构成所述钝化层(150)之后,在所述半导体结构的区域中构成连接结构,所述连接结构具有能传导的第一连接层和第二连接层(161,162),所述第一连接层和第二连接层彼此分开,其中所述第一连接层(161)与所述第一半导体区域(131)电连接,并且所述第二连接层(162)经由至少一个贯通孔(260)与所述第二半导体区域(132)电连接;其中在所述贯通孔(260)的区域中和/或在侧向地环绕所述半导体结构的区域中构成第一镜层;将所述连接结构与载体衬底(125)连接;以及移除所述初始衬底(120)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧司朗光电半导体有限公司,未经欧司朗光电半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480032470.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top