[发明专利]光固化性组合物和使用其制造光学组件的方法有效
| 申请号： | 201480036474.X | 申请日： | 2014-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN105340061B | 公开（公告）日： | 2017-12-22 |
| 发明（设计）人： | 米泽诗织;伊藤俊树;山下敬司;千叶启子;川崎阳司 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;B29C59/02;C08F2/44;C08F20/50 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 使用冷凝性气体工艺的压印方法具有抗蚀固化膜的表面粗糙的问题。这通过用于在含冷凝性气体的气氛中进行压印的光固化性组合物来解决。所述光固化性组合物含有组分(A)(甲基)丙烯酸酯单体、组分(B)光聚合引发剂和组分(C)脱模剂。在5度(摄氏)和1大气压下所述组分(C)在所述冷凝性气体中的饱和溶解度为5重量％以下，所述冷凝性气体在5度(摄氏)和1大气压下为液态。 | ||
| 搜索关键词： | 光固化 组合 使用 制造 光学 组件 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造图案化膜的方法，其特征在于，所述方法包括：将光固化性组合物放置到基板上的步骤；在含冷凝性气体的气氛中，使所述光固化性组合物与模具接触的步骤，所述模具具有用于转印图案形状的原始图案；用光照射所述光固化性组合物以形成固化膜的步骤；和将所述固化膜与所述模具彼此分离的步骤，其中，所述光固化性组合物包含：组分A，其为(甲基)丙烯酸酯单体；组分B，其为光聚合引发剂；和组分C，其为脱模剂，其中在5摄氏度和1大气压下所述组分C在所述冷凝性气体中的饱和溶解度为5重量％以下，所述冷凝性气体在5摄氏度和1大气压下为液态，且所述组分C相对于所述光固化性组合物的总重量的存在比为0.01重量％以上且5重量％以下。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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