[发明专利]涂敷装置及涂敷装置的控制方法有效

专利信息
申请号: 201480037916.2 申请日: 2014-06-10
公开(公告)号: CN105451894B 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 远藤幸一郎 申请(专利权)人: 三键精密化学有限公司
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10;B05D1/26
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金成哲;宋春华
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供形成始端及末端的形状错乱小的带状涂敷膜的涂敷装置。涂敷装置包括供给涂敷液的供给部、和涂敷部(3),涂敷部(3)使从供给部所供给的涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷,涂敷部(3)具有:供给口(4),供给涂敷液;第1缓冲室(5),将从供给口(4)流入的涂敷液在宽度方向上分配;阻力通道(6),相对于从第1缓冲室(5)流入的涂敷液施加比第1缓冲室(5)中的流体阻力大的流体阻力;第2缓冲室(7),将从阻力通道(6)流入的涂敷液在宽度方向上分配;开闭阀(8),设置在第2缓冲室(7)内部而控制从第2缓冲室(7)的上游向下游的连通和阻断;以及,狭缝喷嘴(10),将经过开闭阀(8)而从第2缓冲室(7)流入的涂敷液相对于基材以规定的宽度吐出。
搜索关键词: 缓冲室 涂敷液 涂敷装置 涂敷部 流体阻力 阻力通道 供给部 供给口 开闭阀 基材 狭缝喷嘴 涂敷膜 错乱 分配 始端 涂敷 吐出 连通 施加 上游
【主权项】:
1.一种涂敷装置,包括供给涂敷液的供给部和涂敷部,所述涂敷部将从所述供给部所供给的所述涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷,所述涂敷装置的特征在于,所述涂敷部具有:供给口,供给所述涂敷液;第1缓冲室,将从所述供给口流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配;阻力通道,相对于从所述第1缓冲室流入的所述涂敷液施加比所述第1缓冲室中的流体阻力大的流体阻力;第2缓冲室,将从所述阻力通道流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配;以及狭缝喷嘴,将从所述第2缓冲室流入的所述涂敷液相对于所述基材以所述规定的宽度吐出,所述第2缓冲室的一部分由连通路构成,所述连通路设置于所述涂敷液的开闭阀,所述涂敷液从所述供给部供给并通过所述狭缝喷嘴吐出,所述开闭阀具有在所述宽度方向上延伸的圆柱形状,所述连通路构成所述第2缓冲室的一部分,并且以连通所述第2缓冲室的上游与下游的方式设置于所述开闭阀的内部。
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