[发明专利]半导体装置的制造方法以及半导体装置在审
申请号: | 201480039650.5 | 申请日: | 2014-07-07 |
公开(公告)号: | CN105377980A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 田部井纯一 | 申请(专利权)人: | 住友电木株式会社 |
主分类号: | C08L63/00 | 分类号: | C08L63/00;C08G59/62;C08L83/05;C08L83/06 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;吕秀平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种半导体装置的制造方法,包括:准备工序,准备具有由切割区域(112)划分的多个封装区(114)的元件搭载基板(108);安装工序,在元件搭载基板(108)的各封装区(114)分别安装半导体芯片(116);模塑工序,利用密封用环氧树脂组合物将半导体芯片(116)同时模塑;和单片化工序,沿着切割区域(112)进行切割,将经过模塑的各个半导体芯片(116)单片化,上述密封用环氧树脂组合物包含(A)环氧树脂、(B)固化剂、(C)有机硅树脂、(D)无机填充剂、(E)固化促进剂,上述(C)有机硅树脂为甲基苯基型热塑性有机硅树脂,为具有下述通式(a)、(b)、(c)、(d)所示的重复结构单元的支链状结构有机硅树脂。(式中,*表示与其他重复结构单元或同一重复结构单元中的Si原子的结合,R1a、R1b、R1c和R1d为甲基或苯基,它们可以相互相同也可以不同。与Si原子结合的苯基的含量在1分子中为50质量%以上,与Si原子结合的OH基的含量在1分子中低于0.5质量%。) | ||
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【主权项】:
一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:准备工序,准备具有由切割区域所划分的多个封装区的元件搭载基板;安装工序,在所述元件搭载基板的各封装区分别安装半导体芯片;模塑工序,利用密封用环氧树脂组合物将所述半导体芯片同时模塑;和单片化工序,沿所述切割区域进行切割,将经过模塑的各个半导体芯片单片化,所述密封用环氧树脂组合物包含:(A)环氧树脂、(B)固化剂、(C)有机硅树脂、(D)无机填充剂、(E)固化促进剂,所述(C)有机硅树脂为甲基苯基型热塑性有机硅树脂,为具有下述通式(a)、(b)、(c)、(d)所示的重复结构单元的支链状结构有机硅树脂,式中,*表示与其他重复结构单元或同一重复结构单元中的Si原子的结合,R1a、R1b、R1c和R1d为甲基或苯基,它们相互可以相同也可以不同,与Si原子结合的苯基的含量在1分子中为50质量%以上,与Si原子结合的OH基的含量在1分子中低于0.5质量%。
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