[发明专利]偏光薄膜的制造方法有效
| 申请号： | 201480040789.1 | 申请日： | 2014-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN105393146B | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 郑光春;李仁淑;金旻熙;柳志勳 | 申请（专利权）人： | 印可得株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 宋融冰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米偏光薄膜的制造方法，该方法使用一液型或者二液型黑化油墨，从而能够将目前的叠加多类光学薄膜而制作的偏光薄膜取代为单一薄膜。尤其，涉及一种将含有黑化物质的功能性油墨在纳米图案基底上涂覆后，使用蚀刻液去除在凸起部上形成的粒子，并在槽中填充黑化油墨，从而形成由一张薄膜构成的识别性优异的纳米偏光薄膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种偏光薄膜的制造方法，其特征在于，包括：一次填充步骤，用于在具有槽的基底的所述槽中填充黑化导电油墨组合物；及二次填充步骤，用于通过蚀刻液溶解在所述一次填充步骤中对所述槽填充所述黑化导电油墨组合物时残留在所述基底的表面上的残留黑化导电油墨组合物后，再对所述槽填充所述残留黑化导电油墨组合物。
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