[发明专利]用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备有效
| 申请号： | 201480042235.5 | 申请日： | 2014-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN105408817B | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | H-K·尼恩惠斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种用于辐射源的部件，所述辐射源能够操作以由燃料产生辐射，所述部件具有表面，所述表面包括对于所述燃料具有高润湿性的多个第一区域，所述多个第一区域由对于所述燃料具有低润湿性的第二区域隔开。所述部件例如可以包括用于液滴生成器或污染物阱的屏蔽元件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 辐射源 部件 关联 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于辐射源的部件，所述辐射源能够操作以由燃料产生辐射，所述部件实现为屏蔽元件，所述屏蔽元件用于保护燃料液滴免受所述辐射源内的气流影响，所述屏蔽元件具有至少一个表面，所述至少一个表面包括对于所述燃料具有高润湿性的多个第一区域，所述多个第一区域由对于所述燃料具有低润湿性的第二区域隔开。
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