[发明专利]将物场成像于像场的投射光学单元以及包含这种投射光学单元的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201480042509.0 | 申请日： | 2014-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN105408796B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | M.施瓦布 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G21K5/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种适用于将物场(4)成像于像场(8)中的投射光学单元(7)。多个反射镜(M1至M8)适用于将来自物场(4)的成像光(3)引导至像场(8)。反射镜(M1至M8)中的至少两个实施为用于成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、M3；M5、M6)，其在成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个。这导致具有良好校正的可成像场且同时具有高成像光通量的成像光学单元。 | ||
| 搜索关键词： | 将物场 成像 投射 光学 单元 以及 包含 这种 曝光 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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