[发明专利]含有脂肪族多环结构的自组装膜的下层膜形成用组合物有效

专利信息
申请号: 201480051491.0 申请日: 2014-09-16
公开(公告)号: CN105555888B 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 远藤贵文;染谷安信;若山浩之;坂本力丸 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: C09D201/00 分类号: C09D201/00;B05D1/38;B05D3/10;B05D7/24;C09D5/00;C09D145/00;C09D165/00;G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 黄媛;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种用于形成为了使自组装膜容易排列成期望的垂直图案而需要的下层膜的组合物。所述自组装膜的下层膜形成用组合物包含聚合物,所述聚合物具有在主链含有脂肪族多环化合物的脂肪族多环结构的单元结构。聚合物为具有在主链含有脂肪族多环化合物的脂肪族多环结构、与含芳香环化合物的芳香环结构或源自含乙烯基化合物的乙烯基的聚合链的单元结构的聚合物。聚合物具有下述式(1):(式(1)中,X为单键、以源自含乙烯基化合物的乙烯基结构为聚合链的2价基团、或以源自含芳香环化合物的含芳香环结构为聚合链的2价基团,Y为以源自脂肪族多环化合物的脂肪族多环结构为聚合链的2价基团。)所示的单元结构。脂肪族多环化合物为2环至6环的二烯化合物。脂肪族多环化合物为二环戊二烯或降冰片二烯。
搜索关键词: 含有 脂肪 族多环 结构 组装 下层 形成 组合
【主权项】:
1.一种图案结构的形成方法,其包含下述工序:将自组装膜的下层膜形成用组合物涂布在基板上并进行烧成而形成下层膜的工序;在该下层膜上涂布自组装膜形成用组合物并进行烧成而形成自组装膜的工序,所述自组装膜的下层膜形成用组合物包含聚合物,所述聚合物具有在主链含有脂肪族多环化合物的脂肪族多环结构的单元结构,并且具有下述式(1)所示的单元结构,式(1)中,X为单键、以源自含乙烯基化合物的乙烯基结构为聚合链的2价基团、或以源自含芳香环化合物的含芳香环结构为聚合链的2价基团,Y为以源自脂肪族多环化合物的脂肪族多环结构为聚合链的2价基团,所述自组装膜使用包含含有有机单体(a)作为单元结构的有机聚合物链(A)、和含有与有机单体(a)不同的单体(b)作为单元结构且键合于该有机聚合物链(A)的聚合物链(B)的嵌段聚合物。
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