[发明专利]功能性膜有效
| 申请号： | 201480055219.X | 申请日： | 2014-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN105764845B | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 伊藤博英 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | C01B21/082 | 分类号： | C01B21/082;C01B33/113;C23C16/42;H01B3/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供高温高湿下的耐久性和耐弯曲性优异的功能性膜。本发明为功能性膜，其含有由下述化学式(1)表示的化学组成，且相对于IR光谱中观察的1050cm‑1附近的来自Si‑O的吸收的强度、2200cm‑1附近的来自Si‑H的吸收的强度之比(I[Si‑H]/I[Si‑O])为0.03以下,SiMwOxNyCz···(1)(式中，M表示选自由长式元素周期表的第13族元素组成的组中的至少1种，w、x、y及z为M、氧、氮及碳各自相对于硅的元素比，满足下述数学式(1)～(4)0.01＜w＜1.00...数学式(1)1.00＜x＜2.50...数学式(2)0.00≤y＜0.40...数学式(3)0.01＜z＜1.00...数学式(4))。 | ||
| 搜索关键词： | 功能 | ||
【主权项】：
一种功能性膜，其含有由下述化学式(1)表示的化学组成，且相对于在IR光谱中观察的1050cm‑1附近的来自Si‑O的吸收的强度、2200cm‑1附近的来自Si‑H的吸收的强度之比即I[si‑H]/I[si‑O]为0.03以下，SiMwOxNyCx...(1)式中，M表示选自由长式元素周期表的第13族元素组成的组中的至少1种，w、x、y及z为M、氧、氮及碳各自相对于硅的元素比，满足下述数学式(1)～(4)：0.01＜w＜1.00…数学式(1)1.00＜x＜2.50…数学式(2)0.00≤y＜0.40…数学式(3)0.01＜z＜1.00…数学式(4)。
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