[发明专利]在表面上形成沉积的图案的方法在审

专利信息
申请号: 201480055529.1 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN105612119A 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: R·古奇;T·A·科齐安;B·迪普;A·M·肯尼迪;S·H·布莱克 申请(专利权)人: 雷声公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘兴鹏
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于在具有多个腔室(11)的基底的表面的选定部分上形成材料的涂层的方法,包括:提供在其上具有脱模剂(18)的结构(16);使晶片(10)的顶表面(17)与脱模剂接触以使脱模剂的一部分转移到晶片的顶表面,同时腔室的底部部分与脱模剂保持隔开,以产生中间结构(24),脱模剂设置在晶片的顶表面上并且腔室的底部部分没有脱模剂;使中间结构暴露到材料(27),以将所述材料毯式涂覆在脱模剂和腔室的底部部分两者上;选择地去除脱模剂以及涂层材料同时在腔室的底部部分上留下涂层材料。
搜索关键词: 表面上 形成 沉积 图案 方法
【主权项】:
一种用于在基底的选定部分上形成材料的涂层的方法,所述基底具有形成在所述基底的表面的选定部分中的多个腔室,每个腔室具有从所述腔室底部向外延伸的外周侧壁,所述方法包括:提供在其上具有脱模剂的结构;使晶片的顶表面与所述脱模剂接触以使所述脱模剂的一部分转移到所述晶片的所述顶表面,同时所述腔室的底部部分与所述脱模剂保持隔开,以产生具有如下表面的中间结构,所述表面包括:所述脱模剂设置在所述晶片的所述顶表面上并且所述腔室的底部部分没有脱模剂;使所述中间结构的所述表面暴露到所述材料,以将所述材料毯式涂覆在设置在所述晶片的顶表面上的脱模剂和所述腔室的底部部分两者上;使具有已涂覆的脱模剂和所述底部部分的所述中间结构暴露到从所述晶片的顶表面选择地去除脱模剂以及其上的涂层材料同时在所述腔室的底部部分上留下所述涂层材料的工艺。
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