[发明专利]包含烯丙基二硫化物的加成‑断裂低聚物有效
申请号: | 201480056912.9 | 申请日: | 2014-10-06 |
公开(公告)号: | CN105683257B | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | A·R·弗诺夫;W·H·莫泽;A·S·阿比尔雅曼;G·D·乔利;L·R·克雷普斯基 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | C08G75/00 | 分类号: | C08G75/00;C08F2/38;A61K6/083;C07C323/54;C09D4/00;C08F290/06;C08L51/08 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 陈长会,吕小羽 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明描述了一种包含烯丙基二硫化物基团的加成‑断裂低聚物。可以将所述低聚物加入可聚合组合物中以提供不稳定交联,所述不稳定交联可以在聚合过程中裂解并重组。 | ||
搜索关键词: | 包含 丙基 二硫化物 加成 断裂 低聚物 | ||
【主权项】:
一种由下式表示的加成‑断裂低聚物:其中RA为烃基基团或杂烃基基团;RB各自独立地为烃基基团或杂烃基基团;RC各自独立地为烃基基团或杂烃基基团;下标a大于1;FG1和FG2各自独立地为连接所示的RA、RB和RC基团的官能团;其中FG1和FG2选自酯、酰胺、脲、氨基甲酸酯、醚、胺、酸酐、硫酯、硫醚官能团,并且Z包含烯键式不饱和的可聚合基团。
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