[发明专利]处理器具及处理系统有效
| 申请号： | 201480057611.8 | 申请日： | 2014-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN105658162B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 高篠智之;武井祐介;田中千博 | 申请（专利权）人： | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号： | A61B18/12 | 分类号： | A61B18/12;A61B18/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 处理器具具有处理体，该处理体包括：处理部；罩，其覆盖所述处理部的背面；以及调整部，其配置在所述处理部与所述罩之间，以如下方式进行调整：与所述处理部的所述背面的伴随着能量的施加而导致的温度的上升相应地使所述处理部与所述罩之间的距离增大而扩大所述处理部与所述罩之间的空气层区域，与所述背面的温度降低的情况相应地使所述处理部与所述罩之间的距离减小而缩小空气层区域。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 器具 系统 | ||
【主权项】：
1.一种处理器具，其能够使用能量对生物体组织进行处理，其中，该处理器具包括：处理部，其具有抵接于所述生物体组织的抵接面以及所述抵接面的背面，能够经由所述抵接面对所述生物体组织施加能量并且伴随着所述能量的施加朝向所述背面传递热量；罩，其覆盖所述处理部的所述背面；以及调整部，其配置在所述处理部与所述罩之间，以如下方式进行调整：与所述处理部的所述背面的伴随着所述能量的施加而导致的温度的上升相应地使所述处理部与所述罩之间的距离增大而扩大所述处理部与所述罩之间的空气层区域，与所述背面的温度降低的情况相应地使所述处理部与所述罩之间的距离减小而缩小空气层区域。
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