[发明专利]自旋控制机构及自旋裝置有效
| 申请号： | 201480057910.1 | 申请日： | 2014-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN105659386B | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 广畑贵文 | 申请（专利权）人： | 国立研究开发法人科学技术振兴机构;约克大学 |
| 主分类号： | H01L29/82 | 分类号： | H01L29/82;B81B5/00;H01L35/14;H01L37/00;H01L43/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 自旋控制机构具备自旋部及第1通道部。自旋部具有可反转或可旋转的磁矩。第1通道部由强磁性且绝缘体构成，并以与自旋部接触的方式设置。而且，使用由赋给第1通道部的温度梯度产生的自旋流，控制自旋部的磁矩的方向。 | ||
| 搜索关键词： | 自旋 控制 机构 | ||
【主权项】：
1.一种自旋控制机构，是控制磁矩的方向的自旋控制机构，具备：自旋部，其具有磁矩；以及第1通道部，其由强磁性且绝缘体构成，并且以与所述自旋部接触的方式设置，使用由赋给所述第1通道部的温度梯度产生的自旋流，控制所述自旋部的磁矩的方向，在所述第1通道部以如下的方式形成有厚度的梯度：随着从所述第1通道部的规定位置朝向所述第1通道部与所述自旋部的接触位置，厚度变薄。
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