[发明专利]具有衬底支撑表面上的拱形凹槽的衬托器有效
| 申请号： | 201480061427.0 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN105705679B | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 弗朗西斯科·科里亚;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马里奥·佩雷蒂 | 申请（专利权）人： | LPE公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C30B25/12;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;郑霞 |
| 地址： | 意大利米*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 本发明涉及用于外延生长反应器的衬托器；其大体上由主体(601)组成，该主体具有面(602)，该面包括至少一个区域(603)，该区域适用于接纳待经受外延生长的衬底；该区域(603)具有用于搁置所述衬底的搁置表面(604)或与该搁置表面相关联；该搁置表面(604)设置有图案，该图案包括拱形凹槽(606)的至少三个复数体(605A、605B、605C)；特别是，所述凹槽(606)的凹面朝向搁置表面(604)的边缘。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 衬底 支撑 表面上 拱形 凹槽 衬托 | ||
【主权项】：
1.一种用于外延生长反应器的衬托器，其由主体(601)组成，所述主体具有面(602)，所述面包括适用于接纳待经受外延生长的衬底的至少一个区域(603)；其中，所述区域(603)具有用于搁置所述衬底的搁置表面(604)或与用于搁置所述衬底的搁置表面(604)相关联，并且其中所述搁置表面(604)设置有图案，其特征在于，所述图案包括拱形凹槽(606)的至少三个复数体(605A、605B、605C)，所述至少三个复数体中的每个复数体中的凹槽中的每一个凹槽的凹面面向所述搁置表面的边缘。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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