[发明专利]光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法有效
| 申请号： | 201510036077.9 | 申请日： | 2015-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN104808439B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 朴成均;朴廷敏;李政洙;金智贤;田俊;曹基铉;尹赫敏;金珍善;吕泰勋;金柄郁 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004;H01L21/77 |
| 代理公司： | 11018 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘怀仁;王珍仙 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法。光致抗蚀剂组合物包含相对于约100重量份的丙烯酰基共聚物为约0.1重量份至约30重量份的光引发剂、约1重量份至50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体、约1重量份至50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 制造 薄膜晶体管 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，包含：/n100重量份的丙烯酰基共聚物；/n0.1重量份至30重量份的光引发剂；/n1重量份至50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体；以及/n1重量份至50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体，所述第二丙烯酸酯单体是选自由以下化学式1至4表示的化合物的组中的至少一种：/n<化学式1>/n
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