[发明专利]光刻装置、光刻系统和物品的制造方法有效
| 申请号： | 201510056652.1 | 申请日： | 2015-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN104820343B | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 田中亮 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京怡丰知识产权代理有限公司11293 | 代理人： | 迟军 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了光刻装置、光刻系统和物品的制造方法，所述光刻装置执行在从涂覆装置输送的基板上形成图案的处理，所述涂覆装置利用抗蚀剂涂覆所述基板，所述光刻装置包括获得单元，其被构造为从所述涂覆装置获得第一指定信息，所述第一指定信息指定通过所述涂覆装置涂覆有抗蚀剂且要被执行所述处理的多个基板中的、从所述涂覆装置输送至所述光刻装置的处理对象基板；以及处理单元，其被构造为基于所述第一指定信息，从与所述多个基板分别对应的多个偏移校正信息中，选择与所述处理对象基板对应的偏移校正信息，并且利用所选择的偏移校正信息对所述处理对象基板执行所述处理。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 系统 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，其执行在从涂覆装置输送的基板上形成图案的处理，所述涂覆装置利用抗蚀剂涂覆所述基板，所述光刻装置包括：获得单元，其被构造为从所述涂覆装置获得第一指定信息，所述第一指定信息指定通过所述涂覆装置涂覆有抗蚀剂且要被执行所述处理的多个基板中的、从所述涂覆装置输送至所述光刻装置的处理对象基板；以及处理单元，其被构造为基于所述第一指定信息，从与所述多个基板分别对应的多个偏移校正信息中，选择与所述处理对象基板对应的偏移校正信息，并且利用与所述处理对象基板所属的批次对应的校正值以及所选择的偏移校正信息对所述处理对象基板执行所述处理。
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