[发明专利]用于检查测试图形库的覆盖率的方法和光学邻近修正方法有效
| 申请号： | 201510058510.9 | 申请日： | 2015-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN105988301B | 公开（公告）日： | 2018-03-16 |
| 发明（设计）人： | 杨青 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人： | 董巍,高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于检查测试图形库的覆盖率的方法和光学邻近修正方法。所述用于检查测试图形库的覆盖率的方法包括创建预定大小的栅格；对组成所述栅格的一个或多个网格进行预定义；计算经预定义的所述栅格内的所有测试图形；在所述所有测试图形中筛选出不违反设计规则的测试图形；以及将筛选出的测试图形与原有测试图形库进行比对，确定所述原有测试图形库的覆盖率。本发明所提供的用于检查测试图形库的覆盖率的方法可以得到测试图形库的几何覆盖能力，为光学邻近修正后续的精准修正提供基础。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 测试 图形 覆盖率 方法 光学 邻近 修正 | ||
【主权项】：
一种用于检查测试图形库的覆盖率的方法，其特征在于，所述方法包括：创建预定大小的栅格；对组成所述栅格的一个或多个网格进行预定义；计算经预定义的所述栅格内的所有测试图形；在所述所有测试图形中筛选出不违反设计规则的测试图形；以及将筛选出的测试图形与原有测试图形库进行比对，确定所述原有测试图形库的覆盖率。
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