[发明专利]光刻设备有效
| 申请号： | 201510075990.X | 申请日： | 2012-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN104614950B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;J·J·奥坦斯;E·J·M·尤森;J·H·W·雅各布斯;W·P·范德兰特;F·斯塔尔斯;L·J·曼彻特;E·W·博高特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：衬底台(WT)，所述衬底台包括用以保持衬底(W)的保持器；衬底台位置测量系统，所述衬底台位置测量系统包括传感器头(1)和衬底台参考元件(4)；以及另一位置测量系统，其中衬底台参考元件(4)布置在衬底台(WT)的底侧面，其中传感器头(1)配置成与衬底台参考元件(4)协同操作以确定衬底台(WT)的位置，其中所述另一位置测量系统用以在衬底(W)的顶侧测量衬底台(WT)的位置，其中光刻设备还包括传感器框架(3)，传感器框架(3)包括第一臂(2)和第二臂(8)，并且所述另一位置测量系统包括安装在位于衬底(W)的顶侧的第二臂(8)上的传感器组件(7)。
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