[发明专利]缺陷检查设备和方法在审

专利信息
申请号: 201510088682.0 申请日: 2015-02-26
公开(公告)号: CN105223207A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 姜旻秀;宋尚宪 申请(专利权)人: 韩华泰科株式会社
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/958
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 胡江海;龚振宇
地址: 韩国庆尚*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种缺陷检查设备和方法。该缺陷检查设备包括:载物台,支撑物体;第一发光单元,发射将入射在物体上的光;反射器,将由第一发光单元发射并被物体反射的光再次反射到物体上;第二发光单元,设置在相对于载物台与第一发光单元相对的方向上,并发射将入射在物体上的光;相机,包括接收被反射器反射、入射在物体上、且随后被物体反射的光以及从第二发光单元入射在物体上并穿过物体的光的成像器件;第三发光单元,设置为靠近反射器,并发射将入射在物体上的光。第三发光单元发射的光以与反射器反射的光的角度不同的角度入射在物体上,成像器件接收从第三发光单元发射并入射在物体上的光中的被物体散射的一部分光。
搜索关键词: 缺陷 检查 设备 方法
【主权项】:
一种缺陷检查设备,包括:载物台,支撑物体;第一发光单元,发射将要入射在物体上的光;反射器,将由第一发光单元发射并被物体反射的光再次反射到物体上;第二发光单元,设置在关于载物台与第一发光单元相对的方向上,并发射将要入射在物体上的光;相机,包括接收被反射器反射、入射在物体上、且随后被物体反射的光以及从第二发光单元入射在物体上并穿过物体的光的成像器件;第三发光单元,被设置为靠近反射器,并发射将要入射在物体上的光,其中,第三发光单元发射的光以与反射器反射的光的角度不同的角度入射在物体上,成像器件接收从第三发光单元发射并入射在物体上的光中的被物体散射的一部分光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于韩华泰科株式会社,未经韩华泰科株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510088682.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top