[发明专利]关键尺寸测量设备的光源亮度调整系统和方法在审
申请号: | 201510112933.4 | 申请日: | 2015-03-13 |
公开(公告)号: | CN104658942A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 徐德智;陈程;王雷 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01B11/00;G02F1/1335;G02F1/13 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了一种关键尺寸测量设备的光源亮度调整系统和方法,该光源亮度调整系统包括:校准标记单元,通过光刻工艺形成在显示面板上,并且设置有多个标记;标记图案获取单元,配置为获取所述多个标记的图案;标记数据采集单元,配置为基于所述多个标记的图案,获取所述多个标记的实际线宽和线距,并计算实际线宽的平均值和实际线距的平均值之和与预定线宽和预定线距之和的比值;标记数据判定单元,配置为确定所述比值是否在预定范围内;以及光源亮度自动调整单元,配置为如果标记数据判定单元确定所述比值没有在预定范围内,则产生光源亮度调整信号。通过对光源的亮度进行适当地调整,提高了关键尺寸测量的准确性。 | ||
搜索关键词: | 关键 尺寸 测量 设备 光源 亮度 调整 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种关键尺寸测量设备的光源亮度调整系统,包括:校准标记单元,通过光刻工艺形成在显示面板上,并且设置有多个标记;标记图案获取单元,配置为获取所述多个标记的图案;标记数据采集单元,配置为基于所述多个标记的图案,获取所述多个标记的实际线宽和线距,并计算所述实际线宽的平均值和所述实际线距的平均值之和与预定线宽和预定线距之和的比值;标记数据判定单元,配置为确定所述比值是否在预定范围内;以及光源亮度自动调整单元,配置为如果标记数据判定单元确定所述比值没有在预定范围内,则产生光源亮度调整信号。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造